什么是玻璃艺术 艺术玻璃主要工艺有哪几类

        随着浮法玻璃技术的出现，大批量制造平整均匀的优异玻璃成为可能，同时也使深加工玻璃的种类愈加丰富。除了常用的高度度钢化玻璃以外，还有注重隐私保护的磨砂玻璃、调光玻璃，增强防弹安全性能的夹层玻璃、夹丝玻璃等。在本篇文章中，我们将主要介绍什么是玻璃艺术，以及艺术玻璃的主要工艺方式，说明其特点。

一、什么是玻璃艺术

        “玻璃艺术”,是这样定义的:以富有创造性的方式方法——“艺术”为主体,“玻璃”为载体的玻璃造型艺术,玻璃视觉艺术,均可称为“玻璃艺术”. 玻璃艺术是精力,是无形的.还有资料认为,玻璃艺术作品具有自创性,纯手工性,出自艺术家之手的.

        玻璃艺术和玻璃雕塑品,是用玻璃作为一种艺术形式,塑造成雕塑或二维艺术品.具体措施包括:彩色玻璃,玻璃拉丝,玻璃铸造、玻璃热熔、特别是玻璃吹制.作为一种装饰和功能的载体,玻璃艺术被广泛地发展和流传,玻璃艺术从埃及起源到腓尼基人发明玻璃吹制法、之后它以彩色玻璃窗的形式被普遍用在欧洲大教堂里,并作为教堂标志性的装饰一直被沿用至今,达到了玻璃艺术与艺术玻璃的无缺结合的高峰时期.

        20世纪60年代初之前, “玻璃艺术”指以玻璃为原料制作的装饰用品.像当时有名的瑞典Kosta Boda公司,荷兰高等Leerdam水晶公司,日本的Hoya水晶公司,法国的Gallé公司和美国的Steuben公司等,都在采用工人在工厂里分成每组4人或4人以上的人工玻璃吹制法.在经过了19世纪初艺术玻璃运动后,在玻璃生产中机械吹瓶技术完全取代了工厂人工吹制技术.

        玻璃艺术设计,以从未有过的高层度和广度渗透到人们的生活中.在造型上同时运用不同种类的玻璃及制作工艺的手法,成为艺术家和设计师进行艺术创造的独特媒介.

二、艺术玻璃主要工艺有哪几类

        冷加工类

        1. 镶嵌玻璃(传统镶嵌,英式镶嵌,金属焊接镶嵌);

        2. 化学蚀刻(图案蒙砂,丝印图案蒙砂,图案凹蒙,冰花);

        3. 工具雕刻(各式砂轮,砂条雕刻,晶钢刻刀,机械车花);

        4. 喷砂雕刻(手工刻胶纸掩模,机刻胶纸掩模,光刻掩模,漆料肌理掩模);

        5. 激光雕刻(电脑控制激光雕刻);

        6. 切割造型(刀切割,水切割);

        7. 粘贴造型(平面粘贴,空间粘贴,彩色玻璃或胶膜的粘贴,彩色珠/砂/条/件的粘贴,多层叠粘,贴金);

        8. 玻璃立塑(立线堆塑,立线漆浮雕造形);

        9. 彩绘(喷枪彩绘,画笔彩绘,丝印彩图,聚晶);

        10.夹层(En膜夹层:花布,花纸,彩色胶膜,金属丝网等);

        热加工类

        1. 吹制Blown(用管子蘸玻璃液珠后吹制:人工钢模/机制钢模吹制,人工自由造形:吹拉滚摔粘切)

        2. 铸造Cast(把玻璃液压注或流入模中成形:如钢模压铸玻璃砖,手工浇铸彩色玻砖,平面浇铸艺术玻璃,失蜡精铸/琉璃工坊);

        3. 压制Pressing(把玻璃液引出,用轧锟压花或压彩色肌理和底纹的玻板:如机制压花艺术玻璃,手工压花艺术玻璃,机制玻璃玛赛克等);

        4. 烧结(把玻璃粉等在模中高温烧结成形:如泡沫玻璃或微晶玻璃等的模烧工艺品); 5. 熔凝Fusing(把玻璃全熔凝至玻液,并在其表面张力下凝聚:如熔凝的玻珠,玻璃手饰和玻璃工艺品等);

        6. 彩釉 Enamel(使用高温彩釉在玻璃表面上色或彩绘:如彩釉色玻,彩釉彩绘);

        7. 叠烧(把叠层玻璃烧粘黏成一体:如叠熔,叠烧,夹丝/件);

相关概念

玻璃

        玻璃是非晶无机非金属材料，一般是用多种无机矿物(如石英砂、硼砂、硼酸、重晶石、碳酸钡、石灰石、长石、纯碱等)为主要原料，另外加入少量辅助原料制成的。它的主要成分为二氧化硅和其他氧化物。普通玻璃的化学组成是Na2SiO3、CaSiO3、SiO2或Na2O·CaO·6SiO2等，主要成分是硅酸盐复盐，是一种无规则结构的非晶态固体。广泛应用于建筑物，用来隔风透光，属于混合物。另有混入了某些金属的氧化物或者盐类而显现出颜色的有色玻璃，和通过物理或者化学的方法制得的钢化玻璃等。有时把一些透明的塑料（如聚甲基丙烯酸甲酯）也称作农业生产体系玻璃。

掩模

        掩模版（mask）简称掩模，是光刻工艺不可缺少的部件。掩模上承载有设计图形，光线透过它，把设计图形透射在光刻胶上。掩模的性能直接决定了光刻工艺的质量。在投影式光刻机中，掩模作为一个光学元件位于会聚透镜（condenser lens）与投影透镜（projection lens）之间，它并不和晶圆有直接接触。掩模上的图形缩小4~10倍（现代光刻机一般都是缩小4倍）后透射在晶圆表面。为了区别接触式曝光中使用的掩模，投影式曝光中使用的掩模又被称为倍缩式掩模（reticle）。

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